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日本OTSUKA大塚 膜厚测量系统

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产品名称: 日本OTSUKA大塚 膜厚测量系统
产品型号: FE-3700/5700
产品展商: 日本OTSUKA大塚
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简单介绍

日本 OTSUKA 大塚 FE-3700/5700 全自动膜厚测量系统,专为 FPD 液晶、OLED 高世代产线打造,FE-3700 适配中小尺寸基板,FE-5700 覆盖 G7-G10 超大玻璃基板。搭载 230–1700nm 宽波段分光光路,测厚范围 1nm~500μm,超薄膜重复精度≤±0.05nm,可同步解析 20 层复合薄膜厚度与光学常数。全自动 XY 扫描载台生成全域厚度云图,密闭防尘防静电机身适配无尘产线,高速单点检测≤1 秒。智能软件对接 MES 系统,用于 ITO、PI、有机发光层、氮化硅等各类显示薄膜在线质控,稳定保障面板成膜良率与显示画质一致性。


日本OTSUKA大塚 膜厚测量系统  的详细介绍

一、产品概述

FE-3700、FE-5700 是大塚电子面向FPD 显示面板量产线推出的全自动在线分光膜厚检测系统,搭载 UV-VIS-NIR 超宽波段多通道分光光学单元,依托光谱干涉解析算法,非接触无损检测各类玻璃基板多层薄膜厚度与光学常数 n/k。
两款机型区分适配基板尺寸:
  • FE-3700:适配中小尺寸面板(手机、平板、车载屏,G1~G6 代基板)
  • FE-5700:适配超大尺寸 TV/OLED 基板(G7~G10 代高世代玻璃)
    整机一体化防尘防静电机柜,可对接面板自动化产线,实现整片基板全域 Mapping 在线质控,是 LCD、OLED、TFT 制膜工序核心量测设备。

二、核心优势

  1. 全波段宽量程,薄厚膜通测
    230–1700nm 紫外 - 可见 - 近红外复合光路,测厚覆盖1nm~500μm,纳米级超薄介质、微米级 PI 配向膜、光刻胶、厚封装树脂均可稳定解析;SiO₂薄膜重复精度≤±0.05nm,**管控面板膜层均匀性。
  2. 全自动大行程 XY 扫描载台
    搭载高精度伺服 XY 运动平台,支持整片基板全覆盖多点扫描,自动生成 2D/3D 厚度云图,快速定位边角膜厚偏移、涂布不均、成膜缺陷;搭配视觉定位,精准捕捉像素微区点位测量。
  3. 多层膜同步解析,一机多用
    内置多模型拟合算法,*多同步解析 20 层复合薄膜,单次测量同步输出膜厚、折射率 n、消光系数 k,无需多台设备分别检测 ITO、氮化硅、有机发光层、彩膜树脂等材料。
  4. 产线级稳定洁净设计
    整机密闭防尘、防静电、抗震结构,搭载温湿度自动补偿算法,抵消洁净车间环境干扰;支持 7×24 小时不间断在线量产,适配面板无尘车间规范。
  5. 智能数据互联,闭环制程管控
    可视化操作软件预设 LCD/TFT/OLED 材质数据库,可编写自动测量宏程序;自动导出均匀性报表,支持对接 MES/PLC 系统,超差基板自动标记、数据全程追溯。
  6. 高速无损检测
    单点测量≤1s,无接触光学测量,不划伤基板、不污染膜层,高价值玻璃基板可反复检测,不产生耗材损耗。

三、核心技术规格


项目 FE-3700 FE-5700
光谱波段 230–1700nm UV-VIS-NIR 全波段 230–1700nm UV-VIS-NIR 全波段
测厚范围 1nm ~ 500μm(SiO₂换算) 1nm ~ 500μm(SiO₂换算)
重复精度 超薄膜≤±0.05nm 超薄膜≤±0.05nm
解析层数 *高 20 层复合薄膜 *高 20 层复合薄膜
适配基板 G1~G6 中小尺寸玻璃基板 G7~G10 超大世代 TV/OLED 基板
测量光斑 标准 φ1mm,可选微区光斑 标准 φ1mm,可选微区光斑
单点测速 ≤1 秒 / 点位 ≤1 秒 / 点位
运动系统 全自动大行程 XY 伺服载台 超宽幅长行程 XY 伺服载台
输出功能 厚度云图、均匀性报告、MES 对接 厚度云图、均匀性报告、MES 对接
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